HPHT法与CVD法培育钻石的现状

  进入4月份以来，黄金屡创新高至700元/g成了大家茶余饭后的话题，这一现象直接带动了金属首饰行业的火爆。而钻石也开始步入人们视野，在4月12日的午盘，培育钻石突然拉升，涨幅一度超过6%。

除了这种“市场热”现象导致培育钻石消费激增，是否还有其他原因呢？翻阅资料可知年后全球多个大型天然钻石矿山因达到使用寿命而关闭，促使全球毛坯天然钻石产量持续下降，从而导致培育钻石渗透率不断提升。有专家预计2026年全球钻石原石市场规模将增长至165亿元。而培育钻石将占据半壁江山。

  同时，印度作为全球培育钻石的中游市场，一直处于行业翘楚地位。然而由于近两年，国内技术迅猛发展及政策鼓励，在产品品质方面，中国已远远超过印度。那么是怎样的技术使我国钻石品质实现了质的飞跃，小编带您了解一下。

  众所周知，培育钻石在全球范围内有两种培育方法。一种是HPHT（高温高压法），另一种是CVD法（化学气相沉积法）通过前几期大家了解到，在我国、俄罗斯等国家，HPHT法合成钻石技术占据整个合成钻石产业绝大部分市场份额，而CVD法是一种起步较HPHT法晚，技术门槛稍高的技术。因此其市场份额较小，但近几年有所改变，那么CVD的”过人之处“到底在哪？

  CVD法其基本原理是把碳基气体的C原子与钻石种晶上的C-C键结合一层一层堆积而形成单晶钻石，目前分为以下几种方法：HFCVD (热丝直流等离子体) 、 DC-PACVD ( 直流热阴极等离子体 ) 、 DC Arc plasma jet CVD (直流电弧等离子体)、  MPCVD ( 微波等离子体 )。当前化学气相沉积法合成钻石的主流技术路线是MPCVD（微波等离子体化学气相沉积法），因方法技术醇熟，在市场上应用广泛。

  MPCVD 法合成钻石原理：将微波发生器产生的微波用波导管经隔离器进入反应器 ，并通入CH4与H2的混合气体，在微波的激励下，于反应室内产生辉光放电，使反应气体的分子离化，产生等离子体，小的金刚石晶种上在原子层级上一层层的生长，从而沉积得到更大的单晶金刚石。MPCVD 技术优点为：气体反应决定净度高低，CVD 技术的气体反应过程中固体颗粒杂质含量低，易生成高净度产品。沉积设备决定颗粒大小，MPCVD 法无需高压条件，反应腔室较大，适用于培育大颗粒金刚石；CVD法合成钻石相对于与HPHT法合成钻石优势如下：

1、净度高

CVD 法下毛坯净度更高， 大部分产品均在 VS 以上，品质较HPHT合成钻石品质好。但CVD颜色上稍有劣势， 多为褐色，由于近几年技术改进，这一劣势在不断弥补。

2、颗粒大

HPHT法下， 国内头部厂家均可以生产1-3、 3-6 克拉毛坯钻石。CVD法下，毛坯相对更大，可以生产5ct以上、10ct以上甚至更大的钻石毛坯， 优势明显。（文章素材来源网络，仅供参考）